设备型号：JGP-560型磁控溅射系统

生产厂商：中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

主要参数：

真空室尺寸:φ550×350mm

极限真空度:≤6.6E-6Pa

沉积源:5个2英寸

温度:最高800℃

样品台：可容纳最大2英寸基片

      电动旋转

靶枪电源：直流/射频

功能用途：

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备