设备型号：Orion 8多靶磁控溅射镀膜系统

生产厂商：AJA International

主要参数：

溅射靶位：8个2英寸溅射靶

样品台：可容纳最大4英寸基片

      电动旋转

      上下可调节工作距离

      射频偏压

加热温度：850°C

工艺气体：4路（Ar/N /0 /H2等）

靶枪电源：直流/射频

极限真空：优于5E-8 Torr

功能用途：用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备